Als Ersatz für eine selbst entwickelte aber unzuverlässig arbeitende Einheit, ist Riber mit der Lösung von HepcoMotion® in der Lage, die Vorspannung des Systems spielfrei einzustellen. Hierdurch wird eine extrem verbesserte Wiederholgenauigkeit mit nie dagewesener Zuverlässigkeit erreicht.
Beim MBE Verfahren, eingesetzt bei der Produktion von Elektrogeräten, werden Siliziumwafer exakt innerhalb einer Hochvakuumkammer positioniert. Dieser Vorgang ist an sich bereits anspruchsvoll was Genauigkeit und gleichmäßigen Bewegungsablauf angeht. Zusätzlich erschwert wird dies durch die Arbeitsbedingungen von bis zu 10-9 mbar. Handelsübliche vakuumtaugliche Systeme arbeiten oft nur bis 10-6 mbar.
Beim Wafertransfer kann der Verfahrweg variieren; für Ribers Standardlösung wurden jedoch flache SL2 Führungsschienen (SSM44 x 1000mm Länge) mit jeweils zwei VAC SSSJ34C und VAC SSSJ34E Lagern eingesetzt. Die Lager sind in einem speziellen Laufwagen verbaut, der durch Verzahnung und Ritzel angetrieben wird. Der Aufbau wurde so optimiert, dass Riber ein einfach zu installierendes Paket zur Verfügung gestellt werden konnte.
Diese äußerst verlässliche Lösung ermöglicht es Riber, den Reibungswiderstand je nach Anwendung und anfallender Last zu verändern und trotzdem einen hohen Level an Genauigkeit beizubehalten. Ein reibungsarmes System ist unerlässlich, um Passungsrost auf den ungeschmiert laufenden Edelstahlführungen zu vermeiden. Jegliche Verunreinigung innerhalb der Kammer würde den Vorgang beeinträchtigen und zu Verlust der Wafer führen. Allein HepcoMotion® V-Führungen ermöglichten es Riber, diese spezielle Anwendung zu realisieren.
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